Teknologi pelapisan vakum, juga dikenal sebagai teknologi film tipis, digunakan di berbagai industri, seperti foil kemasan segar dalam industri makanan, film pelindung anti korosi, produksi sel surya, pelapis dekoratif untuk aksesori kamar mandi dan perhiasan , untuk beberapa nama.
Pasar peralatan pelapis vakum telah tersegmentasi berdasarkan aplikasi, teknologi, dan wilayah.Dalam hal teknologi, pasar tersegmentasi lebih lanjut menjadi deposisi uap kimia (CVD), deposisi uap fisik (tidak termasuk sputtering), dan sputtering.
Bagian deposisi uap fisik dibagi menjadi penguapan dan lainnya (laser berdenyut, laser busur, dll.).Segmen evaporasi diharapkan menunjukkan ekspansi yang cukup besar pada jadwal penelitian karena pertumbuhan industri semikonduktor yang optimis.
Di bawah sputtering, pasar tersegmentasi menjadi sputtering reaktif, sputtering magnetron (RF magnetron sputtering, dll. (DC berdenyut, HIPIMS, DC, dll.)) dan lainnya (dioda RF, berkas ion, dll.).
Bidang sputtering magnetron terus berkembang, didorong oleh tren yang menguntungkan terkait dengan industri manufaktur dan elektronik.
Dalam hal aplikasi, pasar tersegmentasi menjadi aplikasi CVD, aplikasi PVD, dan aplikasi sputtering.Di bawah penerapan PVD, pasar selanjutnya tersegmentasi menjadi perangkat medis, mikroelektronika, alat pemotong, penyimpanan, energi matahari, dan lain-lain.Segmen penyimpanan diharapkan menyaksikan pertumbuhan yang menguntungkan selama periode analisis karena meningkatnya permintaan penyimpanan dan semakin populernya SSD.
Aplikasi PVD lainnya termasuk komponen luar angkasa, komponen otomotif, pengemasan, dan lainnya.
Di bawah aplikasi sputtering, pasar telah disegmentasi menjadi film magnetik, sensor gas, metalisasi sirkuit mikroelektronika dan pembawa chip, film tahan korosi, film resistif, perangkat penyimpanan optik, dll.
Di bawah aplikasi CVD, pasar tersegmentasi menjadi polimer, sirkuit terpadu (IC) dan perangkat fotovoltaik, dan kerangka kerja logam organik (penyimpanan gas, adsorpsi, penyimpanan dan pemurnian, penginderaan gas dan dielektrik rendah-k, katalisis, dll.), dan lain-lain. .
Waktu posting: Mei-12-2022