Berita
-
Penggunaan Vacuum Coating-Semiconductor
Lapisan vakum memperpanjang masa pakai dalam industri semikonduktor dan mengurangi waktu henti ruang.Bahan pelapis berkisar dari leburan silika hingga zirkonia yang distabilkan oleh yttria, dan pelapisnya bening secara optik dan lembam secara kimiawi.Semua ini berarti biaya kepemilikan yang lebih rendah dengan menyinkronkan ...Baca selengkapnya -
Penggunaan cetakan injeksi lapisan vakum
Banyak perusahaan yang berjuang dengan masalah suku cadang yang menempel pada cetakan injeksi saat harus dikeluarkan.Pelumasan lapisan vakum memecahkan masalah ini.Suku cadang mudah dibongkar dari cetakan berlapis film, membuat proses produksi menjadi efisien.Dengan kata lain, menghemat waktu dan uang....Baca selengkapnya -
Jenis Lapisan Vakum – Busur Katodik
Busur katodik adalah metode PVD yang menggunakan pelepasan busur untuk menguapkan material seperti titanium nitrida, zirkonium nitrida, atau perak.Bahan yang menguap melapisi bagian-bagian dalam ruang vakum.Jenis Lapisan Vakum – Deposisi Lapisan Atom Atomic Layer Deposition (ALD) ideal untuk...Baca selengkapnya -
Jenis Pelapis Vakum – Sputtering
Sputtering adalah jenis lain dari lapisan PVD yang digunakan untuk menyimpan lapisan bahan konduktif atau isolasi pada suatu objek.Ini adalah proses "garis pandang", seperti proses busur katodik (dijelaskan di bawah).Selama sputtering, gas terionisasi digunakan untuk mengikis atau secara perlahan menghilangkan logam dari ...Baca selengkapnya -
Lapisan vakum
Lapisan vakum digunakan untuk melindungi segala sesuatu mulai dari peralatan medis hingga komponen luar angkasa.Mereka membantu objek menahan abrasi, gesekan, bahan kimia keras dan panas.Jadi mereka bertahan lebih lama.Tidak seperti pelapis pelindung lainnya, pelapis pengendapan film tipis (vakum) tidak memiliki efek samping yang tidak diinginkan – o...Baca selengkapnya -
Jenis lapisan vakum – lapisan PVD
Deposisi Uap Fisik (PVD) adalah proses pelapisan ruang vakum kami yang paling umum digunakan.Bagian yang akan dilapisi ditempatkan di ruang vakum.Bahan logam padat yang digunakan sebagai pelapis diuapkan di bawah vakum.Atom dari logam yang menguap bergerak hampir dengan kecepatan cahaya dan menjadi emb...Baca selengkapnya -
Teknologi lapisan vakum
Teknologi pelapisan vakum, juga dikenal sebagai teknologi film tipis, digunakan di berbagai industri, seperti foil kemasan segar dalam industri makanan, film pelindung anti korosi, produksi sel surya, pelapis dekoratif untuk aksesori kamar mandi dan perhiasan , untuk beberapa nama....Baca selengkapnya -
Metalisasi vakum plastik
Metalisasi vakum plastik banyak digunakan dalam tutup botol parfum, reflektor lampu mobil, logo mobil, dan casing ponsel di seluruh dunia.Teknologi ini juga biasa dikenal dengan “pelapisan PVD”.Dibandingkan dengan pelapisan berbahan dasar air, pelapisan vakum adalah pilihan yang lebih terjangkau sementara...Baca selengkapnya -
Klasifikasi mesin pelapis vakum
Berdasarkan jenisnya, pasar pelapis vakum tersegmentasi menjadi pelapis CVD (Chemical Vapour Deposition), pelapis PVD (Physical Vapour Deposition), magnetron sputtering, dan lain-lain.CVD mencakup sirkuit terpadu dan fotovoltaik, kerangka organik logam, polimerisasi, penginderaan gas, dan low-k...Baca selengkapnya -
Pasar peralatan pelapis vakum-2
Asia Pasifik adalah wilayah terbesar untuk pasar peralatan pelapis vakum pada tahun 2021. Wilayah penjualan peralatan pelapis vakum adalah Asia Pasifik, Eropa Barat, Eropa Timur, Amerika Utara, Amerika Selatan, Timur Tengah, dan Afrika.Negara tempat penjualan peralatan pelapis vakum adalah Austr...Baca selengkapnya -
Laporan Pasar Peralatan Lapisan Vakum
Pasar peralatan pelapis vakum terdiri dari peralatan pelapis vakum yang dijual oleh entitas (organisasi, pedagang eksklusif, dan mitra), yang mencakup penerapan teknologi vakum, yang memerlukan lingkungan bertekanan sub-atmosfer dan uap atom atau molekul yang mudah terbakar.penyedot debu...Baca selengkapnya -
Bagaimana XIEYI CRYOCHILLER Bekerja di Lapisan Vakum untuk Meningkatkan Hasil
Penggunaan Polycold untuk menjebak uap air merupakan konsep yang dikembangkan oleh Dale Meissner pada tahun 1970-an sebagai cara untuk mempercepat evakuasi ruang vakum dan mengurangi tekanan dasar untuk meningkatkan lapisan vakum.Dalam sistem evakuasi, Anda dapat mengeluarkan molekul gas dari ruangan atau, dalam kasus uap air,...Baca selengkapnya
